전문가 시스템 ( CIS 2 ) 의 개발에 관한 연구 ( A Study of Building Expert System ( CIS 2 ) )

권오신 ,  최종수

대한전자공학회 학술대회

1986 .01

Inductively Coupled Plasma Etching of AZO and ZnO in CI2/CH4/H2/Ar and BCI₃/CH4/H2/Ar Chemistries

Hack Joo Lee ,  Bong Soo Kwon ,  Young Rok Pa 외 6명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

남녀 독거노인의 행복감 예측요인 비교 연구

황은정

한국산학기술학회 논문지

2019 .08

75세 이상 후기노인의 주관적 건강상태와 관련 요인 : 2011년 국민건강영양조사 자료를 이용하여

김은석 ,  이성국 ,  윤희정 외 3명

한국산학기술학회 논문지

2014 .07

Model based analysis of etching mechanism of HfO₂ films in inductively coupled CF₄/O₂/Ar and CHF₃/O₂/Ar plasma for dielectric mask

Inwoo Chun ,  Nomin Lim ,  Jinyoung Son 외 3명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

CIS 국가에서의 전기설계

김동환 ,  김종수

조명·전기설비

2017 .05

Studies on Highly Selective Oxide Etching using C2F6-CH3F Inductively Coupled Plasma Source

이원석 ,  정상섭 ,  강창진 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

지역사회 거주 노인의 죽음준비 영향 요인 : 2014 노인실태 조사 활용

이가언 ,  전혜정 ,  유정옥

한국산학기술학회 논문지

2018 .08

전문가 시스템 구성을 위한 범용 추론 시스템-CIS ( CIS-A General Purpose Influence System for Building Expert System )

박종훈 ,  최종수

전자공학회논문지

1986 .09

평판 유도 결합형 CH₄/H₂/Ar 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각 특성

金文永 ,  白榮植 ,  太興植 외 3명

전기학회논문지 C

1999 .09

CIS를 위한 고속 영상 처리 보드 구현

강현인 ,  주용완 ,  백광렬

제어로봇시스템학회 국내학술대회 논문집

1998 .10

Cl/Ar 플라즈마를 이용한 ZnO 박막의 식각 특성

민수련 ,  이장우 ,  조한나 외 1명

공업화학

2007 .01

자화 유도 결합형 CH₄/H₂/Ar 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각 특성

金文永 ,  沈鍾庚 ,  太興植 외 4명

전기학회논문지 C

2000 .04

유체 시뮬레이션을 이용한 유도결합 Ar/CH₄ 플라즈마의 특성 분석

차주홍 ,  이호준

전기학회논문지

2016 .08

응답 일치 여부와 면접 대상자의 인구학적 특성의 연관성: 2014년지역사회건강조사 자료 활용

김자연 ,  김호

보건정보통계학회지

2016 .01

HBr/Ar/CHF3 혼합가스를 이용한 ZnO 박막의 유도결합 플라즈마 식각

김문근 ,  함용현 ,  권광호 외 1명

전기전자재료학회논문지

2010 .01

Dry Etching Characteristics of TiN Thin Films in BCl_(3-) Based Plasma

Jong-Chang Woo ,  Jung-Soo Pa ,  k 외 1명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2011 .01

Model-Based Analysis of the ZrO2 Etching Mechanism in Inductively Coupled BCl3/Ar and BCl3/CHF3/Ar Plasmas

Mansu Kim ,  Nam-Ki Min ,  Sun Jin Yun 외 5명

[ETRI] ETRI Journal

2008 .06

Etch Properties of HfO2 Thin Films using CH4/Ar Inductively Coupled Plasma

우종창 ,  Gwan-Ha Kim ,  Dong-Pyo Kim 외 1명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2007 .01

평판 유도 결합형 CH₄/H₂/Ar 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각에서 공정 변수가 저항성 접촉 형성에 미치는 영향

金文永 ,  太興植 ,  李昈駿 외 3명

전기학회논문지 C

2000 .08