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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
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저널정보
Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회지 제21권 제6호
발행연도
2004.6
수록면
153 - 159 (7page)

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In this study, a new process to pattern directly on a thin metal layer using improved nano replication printing (nRP) process is suggested to evaluate the possibilities of fabricating a stamp for nano-imprinting. In the nRP process, any figure can be replicated from a bitmap figure file in the range of several micrometers with nano-scaled details. In the process, liquid-state resins are polymerized by two-photon absorption which is induced by femto-second laser. A thin gold layer was sputtered on a glass plate and then, designed patterns or figures were developed on the gold layer by newly developed top-down building approach. Generally, stamps for nano-imprinting have been fabricated by using the costly electron-beam lithography process combined with a reactive ion-etching process. Through this study, the effectiveness of the improved nRP process is evaluated to make a stamp with the resolution of around 200㎚ with reduced cost.

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 나노 복화공정 장치구성 및 방법
3. 공정변수 연구
4. 나노 복화패턴 제작
5. 결론
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