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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회지 제21권 제6호
발행연도
2004.6
수록면
160 - 166 (7page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2004

복셀 차감법에 의한 나노 복화(複畵)공정 정밀화
임태우 ,  박상후 ,  양동열 외 2명 Journal of the Korean Society for Precision Engineering 2004.06 학술저널
복셀 차감법을 이용한 나노 복화(複畵)공정의 정밀화
임태우 ,  박상후 ,  양동열 외 2명 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 2004.05 학술대회자료

초록· 키워드

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In this study, a new algorithm, named as Contour Offset Algorithm(COA) is developed to fabricate precise features or patterns in the range of several micrometers by nano replication printing(nRP) process. In the nRP process, a femto-second laser is scanned on a photosensitive monomer resin in order to induce polymerization of the liquid monomer according to a voxel matrix which is transformed from the bitmap format file. After polymerization, a droplet of ethanol is dropped to remove the unnecessary remaining liquid resin and then only the polymerized figures with nano-scaled precision are remaining on the glass plate. To obtain more precise replicated features, the contour lines in voxel matrix should be modified considering a voxel size. In this study, the efficiency of the proposed method is shown through two examples in view of accuracy.
#Femto-second Laser(펨토초 레이저) #Two-photon Polymerization(이광자흡수 경화) #Nano Replication Printing Process(nRP, 나노 복화공정) #Contour Offset Algorithm(COA, 복셀 차감법)

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 나노 복화공정
3. 나노 복화공정 정밀화
4. 나노 정밀도를 가지는 복화제작
5. 결론
후기
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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2009-555-016818412