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Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회지 Vol.24 No.5
발행연도
2007.5
수록면
104 - 109 (6page)

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Photochemical patterning of self-assembled mono layers (SAMs) has been performed by diode pumped solid state (DPSS) 3rd harmonic Nd:YV04 laser with wavelength of 355 nm. SAMs patternings of parallel lines have subsequently been used either to generate compositional chemical patterns or fabricate microstructures by a wet etching. This paper describes a selective etching process with patterned SAMs of alkanetiolate molecules on the surface of gold. SAMs formed by the adsorption ofalkanethiols onto gold substrate employs as very thin photoresists. In this paper, the influence of the interaction between the functional group of SAMs and the etching solution is studied with optimal laser irradiation conditions. The results show that hydrophobic functional groups of SAMs are more effective for selective chemical etching than the hydrophilic ones.
#Self-assembled monolayers(자기조립단충박막) #alkanethiol molecules(알칸티올분자) #functional group(작용기) #photochemical patterning(광화학적 패터닝) #wet etching process(습식식각공정) #hydrophilic(친수성) #hydrophobic(소수성) #photo-oxidation reaction(광산화 반응) #Pseudo-continuous wave UV laser(UV 레이저)

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 실험
3. 결과
4. 결론
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