액침 홀로그래픽 리소그래피 기술을 이용한 2 차원 나노패터닝

김상원; 박신중; 강신일; 한재원

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자료유형: 학술저널

저자정보: 김상원 박신중 강신일 한재원

저널정보: Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회지 Vol.23 No.12

발행연도: 2006.12

수록면: 128 - 134 (7page)

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2006

액침 홀로그래픽 리소그래피 기술을 이용한 2 차원 나노패터닝

김상원 , 박신중 , 강신일 외 1명 Journal of the Korean Society for Precision Engineering 2006.12 학술저널

2004

Immersion 홀로그래픽 리소그래피 기술을 이용한 2차원 나노 패터닝

김상원 , 한재원 한국통신학회 기타 간행물 2004.11 학술대회자료

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Two-dimensional nano-patterns are fabricated using immersion holographic lithography. The photoresist layer is exposed to an interference pattern generated by two incident laser beams (λ =441.6 ㎚, He-Cd laser) of which the pitch size is less than 200 ㎚. Good surface profiles of the 2 dimensional patterns are achieved by trimming the lithography process parameters, such as, exposure time, developing time and refractive index of medium liquid.

#aspect ratio(종횡비) #develop time(현상시간) #exposure time(노광시간) #holographic lithography(홀로그래픽 리소그래피) #immersion lithography(액침 리소그래피) #photoresist(감광제) #polarization(편광)

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