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저자정보
조성훈 (연세대학교) 김홍민 (연세대학교) 강신일 (연세대학교)
저널정보
대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2003년도 생산 및 설계공학 부문 추계학술대회 논문집
발행연도
2003.11
수록면
22 - 26 (5page)

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The one-dimensional gratings and two-dimensional crossed gratings on 4 inch silicon wafer in subwavelength scale have been fabricated by holographic lithography system, which was constructed using He-Cd laser (λ=441.6㎚). For the good surface relief profile, the holographic lithography process was modulated with the exposure energy and developing time. After measuring the surface profiles of nano-structures, master structures on photoresist have been used to fabricate metallic nano-stampers using electroforming process for UV molding.
#Holographic Lithography(홀로그래픽 리소그래피) #Exposure Energy(노광 에너지) #Developing Time(현상시간) #UV Molding(UV 성형)

목차

Abstract
1. 서론
2. 홀로그래픽 리소그래피의 원리
3. 주기성을 갖는 나노 구조물의 제작
4. 공정조건에 따른 나노구조물 형상
5. 금속 몰드 제작 및 UV 성형
6. 결론
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