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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국자기학회 한국자기학회지 한국자기학회지 제16권 제1호
발행연도
2006.2
수록면
75 - 78 (4page)

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텅스턴-보론-카본-질소 화합물 박막(W-B-C-N)을 만들기 위하여 박막내에 보론과 카본 그리고 질소의 불순물을 주입한 다음 결정구조를 조사하였으며, 이러한 박막의 식각 특성을 조사하기 위하여 고온에서 열처리한 다음 Cu 박막을 W-B-C-N 박막위에 증착한 다음에 열처리 하였고 여기에서 열적인 특성을 조사하였다. 1000 A의 박막을 RF magnetron sputtering 방법을 이용하여 증착한 후에 박막의 전기적구조적인 특성을 측정하였으며, scratch test를 통해 박막의 결합력을 측정하였고, XRD 측정을 통하여 결정성을 조사하였으며, 열처리한 후 etching을 하여 nomarski 현미경을 통하여 확산방지막의 안정성을 조사하였다. 이로부터 확산방지막내의 보론과 카본 질소 등의 불순물이 들어감에 따라 Cu가 Si 속으로 얼마나 들어가는가를 효과적으로 조사하였다. W-B-C-N 확산방지막의 역할은 850 ℃까지 고온 열처리를 하는 경우에 Cu 원자가 Si 속으로 확산되어 나가는 것을 효과적으로 방지하는 것을 알 수 있었다. 텅스텐-보론-카본-질소 화합물 박막의 비저항은 질소 가스의 유량비를 조절함으로써 쉽게 조절할 수 있었으며, 텅스텐-보론-카본-질소 화합물 박막은 Cu 확산방지막으로 적용했을 때 적절한 질소 농도가 들어간 확산방지막에서는 효과적으로 Cu의 확산을 방지하는 것을 알 수 있었다.

목차

국문초록

Ⅰ. 서론

Ⅱ. 실험

Ⅲ. 결과 및 검토

Ⅳ. 결론

감사의 글

참고문헌

Abstract

참고문헌 (3)

참고문헌 신청
[학술지(정기간행물)] - / 1990 / J. Electrochem. Soc. 137 3683 google schola [학술지(정기간행물)] - / 1975 / Adhesion of thin films 18 google schola [학술지(정기간행물)] - / 1987 / J. Vac. Sci. Technol. B 5 1723 google schola

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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2009-428-015284261