CoZrNb 후막의 자장 중 열처리에 의한 자기적 특성

허진 ,  김영학 ,  신광호 외 1명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2001 .04

Etch Characteristics of FePt Magnetic Thin Films Using Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching

Eun Ho Kim ,  Yu Bin Xiao ,  Hwa Won Lee 외 1명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2010 .12

Investigation of surface reaction mechanisms on etch of AZO thin films in high density plasma

Young-Hee JOO ,  Chang-Il KIM

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

C₃F₆O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석

김선웅 ,  양경채 ,  이호석 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

SmCo박막의 바이어스자계가 CoZrNb박막의 연자성특성에 미치는 효과

신광호 ,  김영학

한국자기학회지

2003 .10

Plasma Etching Process based on Real-time Monitoring of Radical Density and Substrate Temperature

K. Takeda ,  Y. Fukunaga ,  T. Tsutsumi 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .02

High density plasma etching of MgO thin films in Cl₂/Ar gases

Y. B. Xiao ,  E. H. Kim ,  S. M. Kong 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02

ETCHING CHARACTERISTICS OF MAGNETIC THIN FILMS BY ION BEAM TECHNIQUE

H. C. Lee ,  S. D. Kim ,  S. H. Lim 외 3명

한국자기학회지

1995 .10

CoZrNb 비정질 다층박막에서 여러가지 분리층(spacer)재료가 자성에 미치는 영향

최우진 ,  이택동 ,  황충호 외 1명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

1991 .05

Applications of fluid based plasma simulation : dry etch

주정훈

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma

조철희 ,  김시준 ,  이장재 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

High density plasma etching of CoFeB and IrMn magnetic films with Ti hard mask

Y.B. Xiao ,  E.H. Kim ,  S.M. Kong 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02

MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment

양경채 ,  박성우 ,  김경남 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .02

Magnetic Properties of Co-Pt Thin Films by Using a Wet Etching Process

Chang-Hyoung Lee ,  Geun-Hee Jeong ,  Jung-Kab Pa 외 5명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2008 .06

Investigation on Etch Characteristics of FePt Magnetic Thin Films Using a CH4/Ar Plasma

Eun Ho Kim ,  Hwa Won Lee ,  Tae Young Lee 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2011 .02

Effects of Etch Parameters on Etching of CoFeB Thin Films in CH₄/O₂/Ar Mix

Tea Young Lee ,  Il Hoon Lee ,  Chee Won Chung

한국진공학회 학술발표회초록집

2012 .02

Real-Time Small Exposed Area SiO₂ Films Thickness Monitoring in Plasma Etching Using Plasma Impedance Monitoring with Modified Principal Component Analysis

장해규 ,  남재욱 ,  채희엽

한국진공학회 학술발표회초록집

2013 .02

Etch Characteristics of Magnetic Tunnel Junction Stack Using a High Density Plasma in a HBr/Ar Gas

Su Ryun Min ,  Han Na Cho ,  Seung Pil Choi 외 3명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2007 .05

Selective Etching of Magnetic Layer Using CO/NH₃ in an ICP Etching System

J. Y. Pa ,  k ,  S.-K Kang 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02

Study on etching-shape of ZnO Film by wet-chemical etching

Dong Geun Yoo ,  Myoung Hwa Kim ,  Seong Hun Jeong 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2007 .08