High density plasma etching of CoFeB and IrMn magnetic films with Ti hard mask

Y.B. Xiao; E.H. Kim; S.M. Kong; C.W. Chung

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: Y.B. Xiao (인하대학교) E.H. Kim (인하대학교) S.M. Kong (인하대학교) C.W. Chung (인하대학교)

저널정보: 한국진공학회 한국진공학회 학술발표회초록집 한국진공학회 제38회 동계정기학술대회 프로그램집

발행연도: 2010.2

수록면: 233 - 233 (1page)

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Y. B. Xiao

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주요연구분야 자연과학 > 물리학

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E. H. Kim

소속기관 인하대학교

주요연구분야 자연과학 > 물리학

논문수 4 이용수 66

S. M. Kong

소속기관 인하대학교

주요연구분야 자연과학 > 물리학

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Chee Won Chung

소속기관 Inha University

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