고상 확산 방법에 의한 SOI MOSFET 소자제작과 후속 열처리에 의한 동작특성 개선

이우현 ,  구현모 ,  김관수 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2006 .08

SOI 구조의 C - V 특성 분석

배영호 ,  이광철 ,  정욱진 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

1994 .02

Pseudo-MOSFET을 이용한 SiGe-on-SOI의 Ge 농도에 따른 기판의 특성 평가 및 열처리를 이용한 전기적 특성 개선 효과

박군호 ,  정종완 ,  조원주

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .02

급속 열처리가 초미세 SOI MOSFET 소자의 게이트 산화막 계면 및 동작 특성에 미치는 영향

조원주

한국진공학회 학술발표회초록집

2005 .08

SOI를 이용한 Non - classical Nano - CMOS 소자 기술

조원주 ,  안창근 ,  임기주 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .08

자성 메모리를 위한 나노미터 크기의 자기터널접합 구조의 고밀도 플라즈마 식각

정지원 ,  박익현 ,  박왕현 외 4명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2005 .12

플라즈마 식각 공정의 Ⅲ-Ⅴ 화합물 반도체 광송수신 소자 제조제의 적용

김현수 ,  유영훈 ,  이중기 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2002 .06

고집적 메모리 소자를 위한 MOSFET 구조

이종호

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .02

Temperature Effect on the Interface Trap in Silicon Nanowire Pseudo-MOSFETs

남인철 ,  김대원 ,  허근 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2013 .02

플라즈마 식각공정에서 Radial Basis Function Neural Network Model를 이용한 식각 종료점 검출

Zhao ShuKun ,  김민우 ,  한이슬 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02

나노 CMOS 소자를 위한 SOI 기판에서의 Ni-Silicide 특성 연구

김지영 ,  김초롱 ,  최승화 외 9명

한국진공학회 학술발표회초록집

2007 .02

ECR 플라즈마 식각장치의 고진공 시스템제작 및 반도체 식각특성연구

안무선

한국진공학회 학술발표회초록집

1991 .07

C4F8/Ar 플라즈마를 이용한 SiO2 원자층 식각에서 활성종 구성 비율에 따른 식각 특성 분석

이영석 ,  김시준 ,  조철희 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

Thickness Dependence of SiO₂ Buffer Layer with the Device Instability of the Amorphous InGaZnO pseudo-MOSFET

이세원 ,  조원주

한국진공학회 학술발표회초록집

2012 .02

중성빔 식각과 중성빔 원자층 식각기술을 이용한 TiN/HfO2 layer gate stack structure의 저 손상 식각공정 개발

연제관 ,  임웅선 ,  박재범 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02

플라즈마 식각 공정 챔버내의 부품 식각률 감소를 위한 전처리 기술

김유신 ,  박형진 ,  김정환 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02

Structures of Pseudo Ideal and Pseudo Atom in a Pseudo Q-Algebra

전영배 ,  김희식 ,  안선신

Kyungpook Mathematical Journal

2016 .01

ICP 식각 공정에서의 컨택홀의 기울어진 식각 프로파일

김창목 ,  임노민 ,  이현우 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08