Electrical properties of HfO_xN_y thin films deposited by PECVD

J.-H. Pa ,  k ,  J.-S. Hyun 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2006 .02

Photoluminescence chracteristics of SiN_x thin film deposited by PECVD at low temperature

Kyungsu Lee ,  Eunkyeom Kim ,  Kyongmin Kim 외 9명

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .02

BPSG 및 PSG CVD 공정 중 발생하는 오염입자 발생특성

나정길 ,  문지훈 ,  최후미 외 9명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02

TiN 박막제조를 위한 PECVD 공정의 해석적 연구

안경한 ,  설용건 ,  김선효

한국진공학회 학술발표회초록집

1992 .07

PECVD로 증착한 Ta₂O5 박막의 전기적 특성 Electrical Characterization of Ta₂O5 Thin Films Deposited by PECVD.

김선우 ,  김형준

한국진공학회 학술발표회초록집

1992 .07

PECVD 공정에 의해 제작된 SION박막 특성 분석

정재욱 ,  추성중 ,  박정호

한국진공학회 학술발표회초록집

2011 .02

A study for the hybrid low-k polymer thin films by PECVD and their electrical and mechanical properties

배인섭 ,  조상진 ,  부진효

한국진공학회 학술발표회초록집

2007 .08

PECVD Synthesis of WS₂ for Hydrogen Evolution Catalysis

Kanade Vinit ,  Hyeong-U Kim ,  Seokjun Hong 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Si₃N₄상에 PECVD법으로 형성한 텅스텐 박막의 특성

이찬용 ,  배성찬 ,  이종현 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

1997 .07

Stabilization of Real-time Thickness monitoring system in PECVD chamber

이철 ,  황혜주 ,  박상호 외 6명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

Study on Synthesis and Analysis of Organic-Inorganic Hybrid polymer Thin films by PECVD for Low-k materials

S.-J. Cho ,  I.-S. bae ,  J.-H. Boo

한국진공학회 학술발표회초록집

2007 .02

PECVD 무선주파수 변화에 따른 전면 패시베이션 특성비교

이경동 ,  배수현 ,  김성탁 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2014 .02

PECVD를 이용한 결정질 태양전지 표면 반사방지막의 최적화

이경동 ,  김영도 ,  박성은 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2012 .02

PECVD 공정을 통한 ACL 증착 중 발생 입자의 특성변화 관찰

김동빈 ,  김종호 ,  신재수 외 4명

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2017 .02

Characterization of In-Situ Film Thickness and Chamber Condition of Low-K PECVD Process with Impedance Analysis

Daekyoung Kim ,  Haegyu Jang ,  Yongtae Kim 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02

Synthesis and Characterization of Cyclohexene Polymer Thin Films by PECVD Method

I.-S. Bae ,  C. K. Jung ,  S. J. Cho 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2005 .02

Synthesis and Characterization of Cyclohexene Polymer Thin Films by PECVD Method.

L-S. Bae ,  C. K. Jung ,  Y. S. Pa 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .08

Effect of plasma properties on characteristics of silicon nitride film deposited by PECVD process at low temperature

Jeon G. HAN ,  Jun S. LEE ,  Bibhuti B. SAHU 외 3명

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2016 .08

PECVD로 제작한 실리콘 질화막 및 산화막의 발광 특성

고창훈 ,  주지호 ,  석중현 외 2명

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2005 .08

PECVD법에 의한 다성분 Fe - O계 박막 제조

이은태 ,  김범진 ,  장건익

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1998 .02