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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2003.11
- 수록면
- 151 - 156 (6page)
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We performed the numerical study on the characteristics of the airflow and cross contamination in
the photolithography process cleanroom. The nonuniformity, the deflection angle and the global cross
contamination were used for analyzing the characteristics and performances of cleanroom. We knew that
the airflow characteristics of the cleanrooms are largely affected by the porosity of panel and the
adjustment of dampers. And the numerical result showed that the global cross contamination varies with
the location of source and the passage of time.
the photolithography process cleanroom. The nonuniformity, the deflection angle and the global cross
contamination were used for analyzing the characteristics and performances of cleanroom. We knew that
the airflow characteristics of the cleanrooms are largely affected by the porosity of panel and the
adjustment of dampers. And the numerical result showed that the global cross contamination varies with
the location of source and the passage of time.
목차
Abstract
1.서론
2.클린룸 모델
3.클린룸 평가지표
4.수치해석방법
5.결과 및 고찰
6.결론
참고문헌
참고문헌 (0)
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