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대한기계학회 대한기계학회 논문집 B권 대한기계학회논문집 B권 제31권 제6호
발행연도
2007.6
수록면
522 - 530 (9page)

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The practical studies on the method of particle contamination control for yield enhancement in the cleanroom were carried out. The method of the contamination control was proposed, which are composed of data collection, data analysis, improvement action, verification, and implement control. The partition check method and the composition analysis for data collection and data analysis were respectively used in the main board and the cellular phone module production lines. And these methods were evaluated by the variation of yield loss between before and after improvement action. In case that the partition check method was applied, the critical process step was selected and yield loss reduction through improvement actions was observed. While in case that the composition analysis was applied, the critical sources were selected and yield loss reduction through improvement actions was also investigated. From these results, it is concluded that the partition check and the composition analysis are effective solutions for particle contamination control in the cleanroom production lines.
#Cleanroom(클린룸) #Contamination Control(오염제어) #Defect(결함) #Particle(입자) #Yield Enhancement(수율개선)

목차

Abstract
1. 서론
2. 입자오염제어 방법론
3. 실험
4. 결과 및 고찰
5. 결론
참고문헌

참고문헌 (14)

참고문헌 신청
Cho, S. J., 2006, VOCs Contamination Control in the Cleanroom, The 6th Advanced Course for Cleanroom Technology, Korea Air Cleaning Association, pp. 245~264. google schola Oh, M. D., 2002, A Trend of GIGA Level Cleanroom Technology, International Symposium on Clean Technology and Management for Indoor Air, Korea Air Cleaning Association, pp. 17~62. google schola Whyte, W., 2001, Cleanroom Technology - Fundamentals of Design, Testing, and Operation, Johnson Wiley & Sons, England. google schola Mori, K., Nam, N., Keeten, D., Burns, R., 1994, Yield Enhancement with Particle Defects Reduction, Proceedings of IEEE International Workshop on Defect and Fault Tolerance in VLSI Systems, IEEE, pp. 246~253. google schola Zhou, C., Ross, R., Vickery, C., Metteer, B., Gross, S., Verret, D., 2002, Yield Prediction Using Critical Area Analysis with Inline Defect Data, 2002 IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference, IEEE, pp. 82~86. google schola

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