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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2003.4
- 수록면
- 1,065 - 1,068 (4page)
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The nano imprint process is one of the next generation lithography has been mentioned as one of major nanoreplication
techniques because it is simple process, low cost, high replication fidelity and relatively high throughput. This process
requires a surface contact between a template with patterns and a wafer on a stage. After contact, the vertical moving
the template to the wafer causes some directional motions of the stage. Thus the stage must move according to the
motions of the template to avoid the damage of the transferred patterns on the wafer. This study is to develop the wafer
stage with a passive compliance to overcome the damage. This stage is designed with the concept like that it has a
monolithic, symmetry and planar 6-DOF mechanism.
techniques because it is simple process, low cost, high replication fidelity and relatively high throughput. This process
requires a surface contact between a template with patterns and a wafer on a stage. After contact, the vertical moving
the template to the wafer causes some directional motions of the stage. Thus the stage must move according to the
motions of the template to avoid the damage of the transferred patterns on the wafer. This study is to develop the wafer
stage with a passive compliance to overcome the damage. This stage is designed with the concept like that it has a
monolithic, symmetry and planar 6-DOF mechanism.
목차
Abstract
1. 서론
2. 나노 임프린트 리소그라피
3. 나노 패터닝 장비용 스테이지
4. 스테이지의 운동해석
5. 결론
후기
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