전자선 직접묘사에서 Through-put이 향상된 단위 구형묘사방법 ( Unit-Rectangle Exposure Method for Advanced Through-put in Electron-Beam Direct Writing Lithography )

박선우 ,  김철주

전자공학회논문지

1989 .02

전자 빔 리소그래피를 이용한 나노 소자 제작

박수연 ,  이승우 ,  이재종

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2006 .10

주사전자현미경을 이용한 전자선 직접묘사에 관한 연구 ( A Study of Rlectron Beam Direct Writing Lithography Using SRM )

이재성 ,  홍완희 ,  노승용 외 4명

대한전자공학회 학술대회

1987 .11

Electron-Beam Lithography를 사용한 Sub-0.1㎛ T-Gate 제작에 관한 연구 ( Sub-0.1㎛ T-Gate Fabrication for Monolithic Microwave Integrated Circuits by Electron-Beam Lithography )

이수용 ,  신두식 ,  오재응 외 4명

대한전자공학회 학술대회

1993 .01

Current Status and Future of Electron Beam Lithography

백기호 ,  김영식

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

고효율 광학 소자를 위한 전자빔 및 나노임프린트 기술

조상욱 ,  오승훈 ,  김창석 외 1명

Journal of the Korean Society for Precision Engineering

2009 .06

E-Beam Lithography 기술

손상희 ,  곽계달

전자공학회잡지

1984 .10

Fabrication of in-Plane Gated Transistor with Electron-Beam lithography Technique

한철구 ,  김광무 ,  정석구 외 4명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

A New Simulation Model of Electron Beam Lithography for Manufacturing

함영목 ,  이원규 ,  김수환 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

나노사출성형용 스탬퍼 제작을 위한 Electron beam lithography 패터닝 연구

엄상진 ,  서영호 ,  유영은 외 3명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2005 .10

E-beam lithography 를 이용한 0.1μm NMODFET 제작 ( The Fabrication of the 0.1μm NMOSFET by E-beam Lithography )

유상기 ,  김여환 ,  전국진 외 1명

전자공학회논문지-A

1994 .01

Soft lithography 를 이용한 마이크로 광학소자 제작 연구

조상욱 ,  류진화 ,  이태호 외 2명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2009 .06

E-beam Lithography ( Equipment )

박선우

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

Electron-Beam Lithograph를 이용한 Pattern 형성에 관한 연구 ( The Study of Pattern Formation Using Electron-Beam Lithography )

김학 ,  강호영 ,  이중현 외 1명

대한전자공학회 워크샵

1991 .01

Direct Patterning of Self Assembled Nano-Structures of Block Copolymers via Electron Beam Lithography

Bo Kyung Yoon ,  Won Seok Hwang ,  Youn Jung Pa 외 5명

Macromolecular Research

2005 .10

전자빔을 이용한 중금속이온 (Cr⁺⁶) 의 제거

권기식 ,  이홍승 ,  김병남 외 4명

대한환경공학회 학술발표논문집

1999 .04

Ion Beam Lithography for Submicron Structure Fabrication

백홍렬

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

Sub-10nm Overlay Accuracy in Electron Beam Lithography for Nanometer-Scale Device Fabrication

K. Yamazaki ,  A. Fujiwa ,  a 외 5명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

전자빔 가공장비용 소형 전자빔칼럼개발

강은구 ,  김진석 ,  김한수 외 2명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2011 .06

Direct Writing Lithography Technique for Semiconductor Fabrication Process Using Proton Beam

Kim ,  Kwan Do

반도체디스플레이기술학회지

2019 .01