Incremental Insertion Method(IIM)를 이용한 TIN 생성 프로그램 개발

김윤형 ,  염재홍

대한공간정보학회 학술대회

2003 .04

동시 접합 공정에 의한 자기정렬 코발트 실리사이드 및 얇은 접합 형성에 관한 연구 ( A Study on the Self-Aligned Cobalt Silicidation and Formation of a Shallow Junction by Concurrent Junction Process )

이석운 ,  민경익 ,  주승기

전자공학회논문지-A

1992 .02

역전법을 응용한 실리사이드화된 매우 얇은 접합의 형성 ( Formation of Silicided Ultra-Shallow Junction employing Layer Reversal Method )

김종렬 ,  홍성윤 ,  윤명로 외 2명

전자공학회논문지-A

1996 .08

에피 코발트 실리사이드막으로 부터의 붕소 확산을 이용한 극저층 p+n 접합 형성 ( Ultra Shallow p+n Junction Formation Using the Boron Diffusion from Epi-Co Silicide )

변성자 ,  권상직 ,  김기범 외 1명

전자공학회논문지-A

1996 .07

p+ / n 접합이 형성된 Si ( 100 ) 기판위에 코발트 / 탄탈륨 이중박막을 이용한 극히 얇은 코발트실리사이드 박막의 성장 ( The Formation of an Ultra-thin Cobalt Silicide ( CoSi2 ) Layer on the Pre-Existing P+ / n Junction Using Co / Ta Bilayer )

변정수 ,  김우식 ,  김형준

대한전자공학회 학술대회

1992 .11

급속 열처리 장치에 의한 코발트 실리사이드 형성과 성장에 관한 연구 ( A Study on the Formation and Growth of Cobalt Silicide by Rapid Thermal Processor )

박종성 ,  박세근

대한전자공학회 학술대회

1990 .01

Co / Ti 이중막 실리사이드 접촉을 갖는 P+ -N 극저접합의 형성 ( Formation of P-N Ultra Shallow Junction with The Co / Ti Bilayer Silicide Contact )

신철상 ,  엄우용 ,  장호정 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

Co/Ti 이중막 실리사이드 접촉을 갖는 p+ - n 극저접합의 형성 ( Formation of p+ - n Ultra Shallow Junction with Co/Ti Bilayer Silicide Contact )

장지근 ,  엄우용 ,  신철상 외 1명

전자공학회논문지-D

1998 .05

니켈 코발트 합금조성에 따른 복합실리사이드의 물성 연구

김상엽 ,  송오성

한국재료학회지

2007 .01

Co / Ti 이중막 실리사이드 접촉을 갖는 P＋－N 극저접합 다이오드의 제작과 전기적 특성 ( Fabrication and Electrical Characteristics P＋－N Ultra Shallow Junction with Co/Ti Bilayer Silicide Contact )

신철상 ,  엄우용 ,  장호정 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1997 .07

게이트를 상정한 코발트니켈 복합 실리사이드의 물성과 미세구조

김상엽 ,  송오성 ,  정영순

한국재료학회 학술발표대회

2005 .01

Co/Ti 이중막 실리사이드 접촉을 갖는 P⁺-N 극저접합 다이오드의 제작과 전기적특성

신철상 ,  엄우용 ,  장호정 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1997 .06

고속열확산에 의한 얕은 접합 형성과 Ti-실리사이드화 된 n+ -P 다이오드 특성분석 ( The formation of the Shallow Junction by Rapid Thermal Diffusion and characteristic Analysis for n+ -p Diode with Ti-silicide )

최도영 ,  이성욱 ,  주정규 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1993 .11

고속 열 확산에 의한 얕은 접합 형성과 Ti - 실리사이드화된 n - p 다이오드 특성 분석 ( The Formation of the Shallow Junction by RTD Characteristic Analysis for n - p Diode with Ti - silicide )

최도영 ,  이성욱 ,  주정규 외 3명

전자공학회논문지-A

1994 .08

코발트/니켈 적층구조 박막으로부터 형성된 복합실리사이드

송오성 ,  정성희 ,  김득중 외 1명

한국재료학회지

2004 .01

Electrical Characteristics of Titanium Silicided Shallow Junction

박지수 ,  손동균 ,  변정수 외 4명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

In-Situ 코발트실리사이드 형성에 미치는 증착온도와 증착분위기의 영향 ( Effect of Deposition Temperature and Sputtering Ambient on the In-Situ Cobalt Silicide Formation )

변정수 ,  박지수 ,  박진원 외 1명

대한전자공학회 워크샵

1996 .01

Characterization of Reverse Leakage Current of Shallow Silicide Junction

Hi Deok Lee ,  이상기 ,  Ha Joong Kim 외 2명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1997 .01

Titanium과 Cobalt silicide의 연구

김상용 ,  유석빈 ,  서용진 외 3명

대한전기학회 학술대회 논문집

1989 .07