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S/H Life Time에 따른 WSix의 특성 변화에 관한 연구
한국정보통신학회논문지
2002 .08
Wsix / Poly-crystalline Si Gate 공정에서의 Gate 절연막 특성 변화 Phosphorous 농도 재분배에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1994 .01
MDDR(Mobile Double Data Rate) DRAM의 WSix Peeling 불량 해결 연구
대한전자공학회 학술대회
2008 .06
EPD time delay in etching of stack down WSix gate in DPS+ poly chamber
한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회
2002 .01
P+ Gate Poly 와 WSix 계면에서 Pre-Cleaning 조건에 따른 Boron Oxide 특성분석
대한기계학회 춘추학술대회
2011 .11
Si$O_{2}/{Si}_{0.7}{Ge}_{0.3}/SiO_{2}$계에서의 계면응집현상에 의한 양자점 형성에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
MDDR(Mobile Double Data Rate) DRAM의 WSix Peeling 불량 해결 연구
대한전자공학회 학술대회
2008 .06
Fluorine Effects on NMOS Characteristics and DRAM Refresh
JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE
2012 .03
이중 게이트 절연층을 이용한 저전압 OTFT제작
대한전자공학회 학술대회
2007 .07
이중 게이트 절연층을 이용한 저전압 OTFT제작
대한전자공학회 학술대회
2007 .07
Bias stress effect in organic thin-film transistors with cross-linked PVA gate dielectric and its reduction method using $SiO_2$ blocking layer
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2006 .01
90 nm급 텅스텐 폴리사이드 게이트 식각공정에서 식각종말점의 안정화에 관한 연구
전기전자재료학회논문지
2005 .01
Threshold Voltage control of Pentacene Thin-Film Transistor with Dual-Gate Structure
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2006 .01
텅스텐 실리사이드 듀얼 폴리게이트 구조에서 CMOS 트랜지스터에 미치는 플로린 효과
전자공학회논문지
2014 .03
$SiO_2$ RF Power와 증착 시간 변화에 따른 고유전 $TiO_2-SiO_2$ 절연막의 특성
한국재료학회 학술발표대회
2007 .01
Threshold Voltage Control of Pentacene Thin-Film Transistor with Dual-Gate Structure
Journal of information display
2006 .01
Dielectric Degradation and Breakdown of High-k/Metal Gate Stack nMOSFETs
대한전자공학회 학술대회
2012 .06
Highly Crystalline Ambipolar Phototransistor Fabricated Using a PTCDI-C5 Template on a Polymer Gate Dielectric
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2018 .10
L-모양 gate를 적용한 새로운 dual-gate poly-Si TFT
대한전기학회 학술대회 논문집
2005 .07
SiO₂/Si₃N₄ 2중층 박막의 유전특성
대한전기학회 학술대회 논문집
2003 .07
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