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S/H Life Time에 따른 WSix의 특성 변화에 관한 연구
한국정보통신학회논문지
2002 .08
L-모양 gate를 적용한 새로운 dual-gate poly-Si TFT
대한전기학회 학술대회 논문집
2005 .07
Influence of WSix dual microstructure on the degradation of SiO2 gate dielectrics
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1995 .01
EPD time delay in etching of stack down WSix gate in DPS+ poly chamber
한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회
2002 .01
90 nm급 텅스텐 폴리사이드 게이트 식각공정에서 식각종말점의 안정화에 관한 연구
전기전자재료학회논문지
2005 .01
새로운 게이트 절연막 구조를 가지는 다결정 실리콘 박막 트랜지스터
대한전기학회 학술대회 논문집
1999 .07
Fluorine Effects on NMOS Characteristics and DRAM Refresh
JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE
2012 .03
MDDR(Mobile Double Data Rate) DRAM의 WSix Peeling 불량 해결 연구
대한전자공학회 학술대회
2008 .06
a-Si Gate 구동회로의 Stepwise Gate 신호적용에 대한 연구
전기전자재료학회논문지
2008 .01
P+ Gate Poly 와 WSix 계면에서 Pre-Cleaning 조건에 따른 Boron Oxide 특성분석
대한기계학회 춘추학술대회
2011 .11
게이트 절연막의 캐비티를 가지는 새로운 구조의 다결정 박막 트랜지스터
대한전기학회 학술대회 논문집
2000 .07
고분자 gate 절연막을 이용한 유기 반도체 트랜지스터
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2004 .10
SEA-OF-GATES
CAD기술특강
1989 .01
2-bit/Cell Split Gate Flash Memory with Double Gate
ITC-CSCC :International Technical Conference on Circuits Systems, Computers and Communications
2007 .07
Gate Array
전자공학회지
1992 .06
Fabrication of Sputtered Gated Silicon Field Emitter Arrays with Low Gate Leakage Currents by Using Si Dry Etch
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2013 .01
텅스텐 실리사이드 듀얼 폴리게이트 구조에서 CMOS 트랜지스터에 미치는 플로린 효과
전자공학회논문지
2014 .03
ZrO2 게이트 절연막 위에 증착된 Mo 게이트 전극의 특성
전기전자재료학회논문지
2005 .01
3-Level Gate Drive Design
전력전자학회 학술대회 논문집
2018 .07
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