SPUTTER-DEPOSITION OF CARBON NITRIDE FILMS WITH HIGH NITROGEN CONCENTRATION

Yusuke TAKI ,  Osamu TAKAI

한국표면공학회지

1996 .10

Effects of Substrate Temperature and Deposition Angle on Crystallinity of Tin-nitride Films Synthesized by Reactive Sputtering

Masataka Kato ,  Taku Ishii ,  Yusuke Ohta 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

Reactive Sputtering을 이용한 Molybdenum Nitride의 제조 ( Molybdenum Nitride Formation by Reactive Sputtering )

김진섭 ,  이종현 ,  이우일

대한전자공학회 학술대회

1984 .01

PROPOSE NEW MIXTURE TARGET FOR LOW-TEMPERATURE AND HIGH-RATE DEPOSITION OF PZT THIN FILMS BY REACTIVE SPUTTERING

Tomonobu Hata ,  WeiXiao Zhang ,  Kimihi 외 1명

한국표면공학회지

1996 .10

Tin Nitride Thin Films Fabricated by Reactive RF Magnetron Sputtering at Various Nitrogen Gas Ratios

Sujin Choi ,  Juyun Patk ,  Jisoo Kang 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

A Study on the properties of aluminum nitride films on the Al7075 deposited by pulsed DC reactive magnetron sputtering

Jung-hyo Kim ,  Byung-Chul Cha ,  Keun-Hak Lee 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2012 .11

Sputtering Deposition 의 특성과 그 응용

권식철

한국표면공학회지

1981 .03

Reactive Sputtering 법으로 제조된 Tungsten Nitride 박막의 열적 안정성 및 전기저항

이기선 ,  이병학 ,  손동균

한국재료학회 학술발표대회

1999 .01

직류 마그네트론 스퍼터링 공정 중 타겟 오염에 따른 박막 및 계면 형성 특성

이진영 ,  허민 ,  이재옥 외 1명

반도체디스플레이기술학회지

2019 .01

반응성 스퍼터링에서 산화 티타늄 박막의 성장 특성

이필홍 ,  고경현 ,  안재환 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

박막내 AIN 함량이 $(Ti_{1-x}Al_x)N$ 박막의 미세구조와 미세경도에 미치는 영향

박종관 ,  박주동 ,  오태성

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

반응성 RF 마그네트론 스퍼터링에 의한 TiN_x 상온 성막에 있어서 기판 상의 펄스상 직류 바이어스 인가 효과

김세기

한국표면공학회지

2019 .12

Effects of sputtering gas on the film structure and mechanical properties for the preparation of CNx films by reactive sputtering

Tomoyasu Shi ,  oya ,  Yukihi 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

RF reactive magnetron sputtering으로 제조한 TiO 박막의 구조 및 광학적 특성

강계원 ,  이영훈 ,  곽재천 외 4명

한국재료학회지

2002 .01

RF-magnetron sputter법을 이용한 silicon nitride 박막의 제조

하윤정 ,  이상운 ,  신재혁 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2003 .10

DC 반응성 스퍼터링된 TiN 박막의 구조적 및 전기적 특성 ( Structural and Electrical Properties of Reactively Sputtered Titanium Nitride Films )

류성룡 ,  오원웅 ,  최진석 외 6명

전자공학회논문지-A

1992 .08