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평면 광 도파로 제작을 위한 실리카 막의 ICP 식각에 관한 연구 ( ICP etching of silica layers for planar waveguide fabrication )
한국통신학회 기타 간행물
1997 .01
SiO2 식각 특성 개선을 위한 E-ICP와 ICP 식각 비교
대한전자공학회 학술대회
1999 .11
C₄F₈/O₂ 공정기체와 E-ICP를 이용한 산화막 식각
대한전자공학회 학술대회
2001 .06
Enhanced-Inductively Coupled Plasma (E-ICP)를 이용한 Silylated photoresist 식각공정개발
전기전자재료학회논문지
2002 .01
실리카 광 도파로 반사 격자의 제작
한국통신학회 기타 간행물
2004 .11
E-ICP와 ICP를 이용한 MIS(Mo/HfO₂/Si) Capacitor의 Plasma Etching Damage 연구
대한전자공학회 학술대회
2007 .07
E-ICP와 ICP를 이용한 MIS(Mo/HfO₂/Si) Capacitor의 Plasma Etching Damage 연구
대한전자공학회 학술대회
2007 .07
ICP 식각 시스템에 의한 초전도 스트립 라인의 임계 특성 분석
전기전자재료학회논문지
2004 .01
ICP-RIE 방법에 의한 Si 식각 특성 개선에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
2007 .07
ICP-RIE 방법에 의한 Si 식각 특성 개선에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
2007 .07
ICP 장치를 이용한 초전도 자속 흐름 트랜지스터의 링크 제작
전기학회논문지 C
2001 .10
E-ICP에 의한 산화막 식각특성
대한전자공학회 학술대회
2000 .06
ICP 알고리즘의 회전 오차민감도 ( Error sensitivity of rotation angle in ICP algorithm )
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
Silica-Based Planar Waveguide Lasers
OPTOELECTRONICS & COMMUNICATIONS CONFERENCE
1997 .01
화염가수분해 증착법을 이용한 저손실 실리카 도파로 제작 ( Fabrication of Low-Loss Silica Waveguides by Flame Hydrolysis Deposition )
한국통신학회 기타 간행물
1998 .01
ICP Etching of RuO2 Thin films
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
Anisotropic Etching of Tungsten with ICP System
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
BCl 평판형 유도결합 플라즈마를 이용한 GaAs 건식식각
한국재료학회지
2003 .01
초미세 공정에 적합한 ICP(Inductive Coupled Plasma) 식각 알고리즘 개발 및 3차원 식각 모의실험기 개발
대한전자공학회 학술대회
1999 .06
ICP ETCHING OF TUNGSTEN FOR X-RAY MASKS
한국표면공학회지
1996 .12
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