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Nanocrystalline zirconium nitride (ZrN) coatings were deposited by mid-frequency direct current sputtering (mfMS) with varying pulsed plasma parameters such as pulse frequency and duty cycle to understand the effect of pulsed plasma on the microstructure, residual stress and mechanical properties. The results show that, with the increasing pulse frequency and decreasing duty cycle, the coating morphology changed from a porous columnar to a dense structure, with finer grains. Midfrequency magnetron sputtered ZrN coatings with pulse frequency of 30 ㎑ showed the highest both nanoindentation hardness of 16.3 ㎬, and elastic modulus of 214.4 ㎬. In addition, Effect of pulse frequency on a residual stress and average crystal grain sizes was also investigated.
목차
Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
References
참고문헌 (31)
참고문헌 신청
J. Deng, J. Liu, J. Zhao, W. Song, M. Niu, Friction and wear behaviors of the PVD ZrN coated carbide in sliding wear tests and in machining processes, Wear, 264 (2008) 298–307.
J. C. Caicedo, G. Zambrano, W. Aperador, L.E. Alarcon, E. Camps, Mechanical and electrochemical characterization of vanadium nitride (ZrN) thin films, Applied Surface Science, 258 (2011) 312–320.
D. Valerini, M.A. Signore, A. Rizzo, L. Tapfer, Optical function evolution of ion-assisted ZrN films deposited by sputtering, Journal of Applied Physics, 108 (2010) 083536.
S. Niyomsoan, W. Grant, D.L. Olson, B. Mishra, Variation of color in titanium and zirconium nitride decorative thin films, Thin Solid Films, 415 (2002) 187–194.
A. Rizzo, M.A. Signore, D. Valerini, D. Altamura, A. Cappello, L. Tapfer, A study of suppression effect of oxygen contamination by bias voltage in reactively sputtered ZrN films, Surface and Coatings Technology, 206 (2012) 2711–2718.
J. C. Caicedo, G. Zambrano, W. Aperador, L.E. Alarcon, E. Camps, Mechanical and electrochemical characterization of vanadium nitride (ZrN) thin films, Applied Surface Science, 258 (2011) 312–320.
D. Valerini, M.A. Signore, A. Rizzo, L. Tapfer, Optical function evolution of ion-assisted ZrN films deposited by sputtering, Journal of Applied Physics, 108 (2010) 083536.
S. Niyomsoan, W. Grant, D.L. Olson, B. Mishra, Variation of color in titanium and zirconium nitride decorative thin films, Thin Solid Films, 415 (2002) 187–194.
A. Rizzo, M.A. Signore, D. Valerini, D. Altamura, A. Cappello, L. Tapfer, A study of suppression effect of oxygen contamination by bias voltage in reactively sputtered ZrN films, Surface and Coatings Technology, 206 (2012) 2711–2718.
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