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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2023.3
- 수록면
- 121 - 137 (17page)
- DOI
- https://doi.org/10.1007/s13391-022-00384-2
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By combing the carrier mobility of graphene with the excellent light absorption properties of silicon, ultra-shallow Schottkyjunction can be obtained, and can exist stably for a long time. The photoelectric property of Schottky junction is determinednot only by graphene and silicon semiconductor layer, but also by the interface layer between the two. Through a series ofoptimizations, the performance of graphene/silicon Schottky junction photodetectors can be continuously improved. Asa result, graphene/silicon Schottky junctions more promising for the development of next generation photodetectors withits stability, ease of preparation and sensitivity. In this review, we firstly give a brief introduction to Gr Schottky junctionphotodetectors, and then present a comprehensive review on the recent progress of optimizing Gr/Si Schottky junction photodetectorsin the past few years, including light management engineering, band engineering and interfacial engineering.
Finally, the current challenges are summarized and further perspectives are outlined.
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