페로브스카이트 반도체 물질에 원형 패턴을 형성하기 위한 상압플라즈마 식각 기술

김무진

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자료유형: 학술저널

저자정보: 김무진 (강남대학교)

저널정보: 중소기업융합학회 융합정보논문지 융합정보논문지 제11권 제2호

발행연도: 2021.1

수록면: 10 - 15 (6page)

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2024

광전자 소자용 페로브스카이트 반도체 물질의 식각 기술 동향 및 기술에 대한 연구

김무진 , 이종필 , 민영실 외 2명 한국조명·전기설비학회 학술대회논문집 2024.05 학술대회자료

2023

습식 식각 기술을 사용한 페로브스카이트 반도체 물질 패터닝 후 이 물질을 기반으로 한 광센서 소자 제작 및 광특성 분석

김무진 , 이종필 , 민영실 외 1명 한국조명·전기설비학회 학술대회논문집 2023.05 학술대회자료

2022

상압플라즈마 식각 기술을 이용한 유무기 페로브스카이트 반도체 물질의 원형 패턴 형성에 대한 연구

김무진 , 김경보 , 이종필 대한전기학회 학술대회 논문집 2022.11 학술대회자료

2021

조명용 반도체 소재로의 적용을 위한 페로브스카이트 소재의 식각 기술 개발

김무진 , 이종필 , 민영실 외 1명 한국조명·전기설비학회 학술대회논문집 2021.05 학술대회자료

페로브스카이트 반도체 물질에 원형 패턴을 형성하기 위한 상압플라즈마 식각 기술

김무진 융합정보논문지 2021.01 학술저널

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본 논문에서는 먼저 습식 코팅 방법으로 페로브스카이트 (CH3NH3PbI3) 박막을 글라스 상에 형성하고, 다양한 분석 기법을 이용하여 막의 두께, 표면거칠기, 결정성, 구성성분 및 가시광 영역에서의 이 물질의 반응에 대해 논한다. 완성된 반도체 물질은 막내부에 결함(defect)이 없고 균일하며, 표면거칠기는 매우 작으며, 가시광 영역에서 높은 흡수율이 관찰되었다. 다음으로 이와 같이 형성된 유무기 층에 hole 형상을 구현하기 위하여, 구멍이 일정한 간격으로 있는 메탈마스크, 페로브스카이트 물질이 코팅되어 있는 유리, 자석 순서로 되어있는 구조의 샘플을 상압플라즈마 공법을 이용하여 시간에 따른 물질에 형성되는 hole 형태의 변화를 분석하였다. 시간이 길어짐에 따라 더 많이 식각되는 것을 알 수 있으며, 이 중에서 공정 시간을 가장 오래한 샘플에 대해서는 보다 자세하게 살펴보았고, 플라즈마의 위치에 따른 차이에 의해 7영역으로 분류할 수 있었다.

#습식 코팅 #페로브스카이트 #hole 형상 #상압플라즈마 #식각 공정

참고문헌 (16)

참고문헌 신청

D. Ban / 2004 / Optimized GaAs∕AlGaAs light-emitting diodes and high efficiency wafer-fused optical up-conversion devices / Journal of Applied Physics 96(9):5243

L. Uhlig / 2020 / Spectral-temporal dynamics of(Al, In)GaN laser diodes / Optics Express 28(2):1771~1789

Kyoung-Bo Kim / 2014 / Influence of Cr Thin Films on the Properties of Flexible CIGS Solar Cells on Steel Substrates / Electronic Materials Letters 10(1):247~251

X. Mathew / 2004 / CdTe/CdS solar cells on flexible substrates / Solar Energy 77(6):831~838

E. H. Jung / 2019 / Efficient, stable and scalable perovskite solar cells using poly(3-hexylthiophene) / Nature 567:511~515

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