실리콘의 에피턱셜 성장에 관한 연구

홍봉식

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자료유형: 학술저널

저자정보: 홍봉식

저널정보: 대한공업교육학회 대한공업교육학회지 대한공업교육학회지 제5권 제2호

발행연도: 1980.10

수록면: 180 - 185 (6page)

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Epitaxial layers of silicon have been grown on silicon substrates by hydrogen reduction of silicon tetrachloride. Growth rate on oriented <111> antimony doped substrates was 1.2μm/min and controlled gas doping was up to ~10^13 ㎝^(-3) impurity concentration in epitaxial layers.

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