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학술저널
저자정보
신창호 (울산대학교 첨단소재공학부) 성영종 ([주]DH 기술연구소) 임성열 ([주]DH 기술연구소) 신기욱 ([주]DH 기술연구소) 정철우 (울산대학교 첨단소재공학부) 김선광 (울산대학교 첨단소재공학부) 김준호 (울산대학교 첨단소재공학부) 유용주 (울산대학교 첨단소재공학부) 김대일 (울산대학교 첨단소재공학부)
저널정보
한국열처리공학회 열처리공학회지 열처리공학회지 제23권 제1호
발행연도
2010.1
수록면
29 - 33 (5page)

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Titanium nitride (TiN) films were deposited on the polycarbonate substrate by using radio frequency (RF) magnetron sputtering without intentional substrate heating. After deposition, the films were bombarded with intense electron beam for 20 minutes. The intense electron irradiation impacts on the crystalline, hardness and surface roughness of the TiN films. The films irradiated with an electron beam of 300 eV show the small grains on the surface, while as deposited TiN films did not showany grains on the surface. Also the surface harness evaluated with micro indenter was increased up to 18 Gpa at electron energy of 900 eV after electron beam irradiation. In addition, surface root mean square (RMS) roughness of the films irradiated with intense electron beam affected strongly. The films irradiated by electron beam with 900 eV have the lowest roughness of 1.2 nm in this study.
#TiN #sputtering #electron irradiation #hardness #roughness

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