지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
이용수
등록된 정보가 없습니다.
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
Dopant Activation and Damage Recovery of Ion Shower Doped Poly-Si According to Various Annealing Techniques
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2003 .01
The effect of annealing method on dopant-activation and damage-recovery in ion-shower-doped Poly-Si using $PH_3/H_2$
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2004 .01
Dopant-Activation and Damage-Recovery of Ion-Shower-Doped Poly-Si through $PH_3/H_2$ after Furnace Annealing
Journal of information display
2004 .01
Ion shower doping 후 FA(furnace annealing)에 따르는 dopant activation 과 damage recovery에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
2003 .01
Reverse annealing of $P^+/B^+$ ion shower doped poly-Si
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2006 .01
저온 poly-Si TFT의 제조시 Ion Shower Doping의 공정변수에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
Dopant activation by using CW laser for LTPS processing
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2005 .01
불순물을 이온주입시킨 실리콘 기판위에 형성된 TaSi2의 특성.
대한전자공학회 학술대회
1990 .11
Reverse annealing of boron doped polycrystalline silicon
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2008 .01
Co/M/(100)Si에서의 dopant의 열처리에 따른 재분포
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
Application of Modified Rapid Thermal Annealing to Doped Polycrystalline Si Thin Films Towards Low Temperature Si Transistors
한국재료학회지
2008 .01
Poly-Si에 이온 지입된 dopants가 Ti-Silicides 형성에 미치는 영향 ( Effects of dopants introduced into the poly-Si on the formation of Ti-Silicides )
대한전자공학회 학술대회
1989 .07
Annealing Behavior of Boron Doped SLS Polycrystalline Silicon
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
불순물이 주입된 Poly-Si/Single-Si 기판에서 TiSi2 형성시 Dopants의 거동 ( The Behavior off Dopants During the Formation of TiSi2 in the Poly-Si/Single-Si Substrate with Implanted Impurities )
전자공학회논문지-A
1991 .12
불순물이 주입된 Poly-Si / Single-Si 기판에서 TiSi2 형성시 Dopants의 거동 ( The Behavior of Dopants During the Formation of TiSi2 in the Poly-Si/Single-Si Substrate with Implanted Impurities )
대한전자공학회 학술대회
1991 .01
Controllability of Dopant Ion Number in Single Ion Implantation
International Conference on Electronics, Informations and Communications
1998 .01
Dopant가 주입된 poly-Si 기판에서 Ta-silicides의 형성 및 dopant 의 거동에 관한 연구
한국재료학회지
1991 .01
Application of Rapid Thermal Annealing To Activation in Low Temperature Polycrystalline Si Thin Films
한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회
2007 .01
Effect of Alternating Magnetic Field on Ion Activation in Low Temperature Polycrystalline Silicon Technology
반도체및디스플레이장비학회지
2004 .01
0