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논문 기본 정보

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저자정보
박경희 (조선대학교 에너지자원신기술연구소) 서용진 (대불대학교 전기공학과) 홍광준 (조선대학교 물리학과) 이우선 (조선대학교 전기공학과) 박진성 (조선대학교 재료공학과)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제13권 제5호
발행연도
2003.1
수록면
309 - 312 (4page)

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Tin dioxide($_SnO2$) thin films were deposited on alumina substrate by metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) as a function of temperature and time. Thin films were fabricated from di-n-butyltin diacetate as a precursor and oxygen as an oxidation. The microstructure of deposited films was characterized by X-ray diffraction and field emission scanning electron microscopy(FE-SEM). The thickness was linearly increased with deposition time and $SnO_2$structure was found from $375^{\circ}C$ for the deposition time of 32 min. The maximum sensitivity to 500ppm CO gas was observed for the specimens deposited at $375^{\circ}C$ for 2 min at the operating temperature of $350^{\circ}C$. Gas sensitivity to CO increased with decreasing the film thickness. The sensing properties of response time, recovery and sensitivity of CO were changed with variations of substrate temperature and time.

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