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저자정보
박상기 (국민대학교 금속재료공학부) 강봉주 (국민대학교 금속재료공학부) 양희정 (국민대학교 금속재료공학부) 이원희 (국민대학교 금속재료공학부) 이은구 (조선대학교 금속재료공학과) 김희재 (군사과학대학 재료과학과) 이재갑 (국민대학교 금속재료공학부)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제11권 제7호
발행연도
2001.1
수록면
580 - 584 (5page)

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Ti과 Si의 비가 서로 다른 종류의 타 을 $Ar/N_2$의 혼합기체를 사용하여 rf magnetron sputtering방법으로 증착된 Ti-Si-N박막의 증착특성에 대해 연구하였다. Ti-Si-N박막의 조성과 증착률은 각 타 Ti/Si의 비율과 증착시의 질소기체의 유량에 따라 크게 변하였다. 이것은 Ti과 Si의 nitriding 정도의 차이로 인한 서로 다른 sputter yield에 의한 것으로 나타났다. Si이 비교적 적게 포함된 Ti-Si-N박막은 증착시부터 박막내 TiN의 결정화가 일어났으며, 낮은 비저항을 나타내었다. N의 함량의 증가는 박막의 밀도와 압축응력을 증가시켜 Ti-Si-N박막의 확산방지 능력에 큰 영향을 미치는 인자로 나타났다. 본 연구에서 $N_2$의 유략과 타 의 Ti/Si비율을 조절함으로써 효율적인 확산방지막인 Ti-Si-N 박막의 공정조건을 확립할 수 있었다. 박막의 공정조건을 확립할 수 있었다.

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