실리사이드를 이용한 새로운 고내구성 실리콘 전계방출소자의 제작

장지근 ,  윤진모 ,  정진철 외 1명

한국재료학회지

2000 .01

Si 기판 위에 형성된 Mo-silicides에 관한 연구 ( A study of Mo-silicides formed on Si-substrate )

조한수 ,  조현춘 ,  최진석 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1990 .07

Al-1%Si 과 Ti-Silicide의 반응성에 관한 연구 ( A Study on the Reaction of Al-1%Si with Ti-Silicide )

송영식 ,  백수현 ,  황유상 외 6명

대한전자공학회 학술대회

1992 .01

Si 기판 위에 Mo-Silicides의 형성과 그 특성에 관한 연구 ( A Study on the Properties and Formation of Mo-Silicides on Si-Substrate )

조한수 ,  조현춘 ,  최진석 외 1명

전자공학회논문지-A

1991 .01

Al-1% Si층과 Ti-silicide층의 반응에 관한 연구

황유상 ,  백수현 ,  송영식 외 7명

한국재료학회지

1992 .01

STM Study of Silicide Structure on Si ( 110 ) Surface

Izumi Ono ,  Masamichi Yoshimu ,  a 외 1명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Co-실리사이드를 이용한 새로운 고내구성 실리콘 전계방출소자의 제작

장지근 ,  김민영 ,  정진철

한국재료학회지

2000 .01

Si기판에 주입된 As이온이 Titanium-Silicides 형성에 미치는 영향 - 1 - ( Effects of As Ions Implanted in Si Substrates on the Titanium-Silicides Formation )

정주혁 ,  최진석 ,  백수현

전자공학회논문지

1989 .06

TOP ELECTRODE ANNEALING EFFECTS IN SrBi$_2$Ta$_2$O$_9$/CeO$_2$/Si STRUCTURE

Shin ,  Dong-Suk ,  Lee 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

Vacuum Dependency of Si, Co Slicide and Mo Silicide FEAs

Lee ,  Jong-Duk ,  Shim 외 6명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2002 .01

선형열처리를 이용한 Si(100)/Si₃N₄∥Si(100)기판쌍의 직접접합

이영민 ,  송오성 ,  이상현

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2000 .11

Si(100)의 얇은 산화막을 통한 Co$Si_{2}$형성에 관한 연구

신영철 ,  전형탁

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

Poly-Si에 첨가한 도펀트가 Titanium Silicides 형성에 미치는 영향 2 ( Effects of Dopants Introduced into the Poly-Si on the Formation of Ti-Silicides )

유윤수 ,  최진석 ,  백수현

전자공학회논문지

1990 .02

Poly-Si에 도핑공정변화에 따른 Ti-Silicides 형성반응에 관한 연구 ( The formation of Ti-Silicides with the change of doping process on the poly-Si )

류연수 ,  최진석 ,  백수현

대한전자공학회 학술대회

1988 .11

직접 접합된 Si-Si, Si-$SiO_2$/Si기판쌍의 접합 계면에 관한 연구

주병권 ,  방준호 ,  이윤희 외 2명

한국재료학회지

1994 .01

인이 주입된 poly-Si/SiO2/Si 기판에서 텅스텐 실리사이드의 형성에 관한 연구 ( Study on Formation of W-Silicide in the Doped-Phosphorus poly-Si/SiO2/Si-Substrate )

정회환 ,  주병권 ,  오명환 외 1명

전자공학회논문지-A

1996 .03

급속 열처리공정 ( RTA ) 에 의한 a-Si / Ti / a-Si 다층구조의 TiSi2 형성에 관한 연구 ( Titanium Silicide Formation of the a-Si / Ti / a-Si Multilayer by Rapid Thermal Annealing )

윤형섭 ,  진영모 ,  강원구 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1987 .11

선형열처리를 이용한 Si(100)/Si$_3$N$_4$∥Si (100) 기판쌍의 직접접합

이영민 ,  송오성 ,  이상연

한국재료학회지

2001 .01