Analysis of Interface Trap Density between Semiconductor-Gate insulator with C-V characteristics

Jeong, Seung-Hyeon; Kim, Se-Min; Song, Chung-Kun

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: Jeong, Seung-Hyeon (Dept. of Electronics engineering, Dong-A University) Kim, Se-Min (Dept. of Electronics engineering, Dong-A University) Song, Chung-Kun (Dept. of Electronics engineering, Dong-A University)

저널정보: 한국정보디스플레이학회 한국정보디스플레이학회 International Meeting 한국정보디스플레이학회 2008년도 International Meeting on Information Display

발행연도: 2008.1

수록면: 645 - 647 (3page)

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In this paper, we analyzed interface trap density between pentacene and PVP and SiO2 gate dielectric by using high-low C-V characteristics. The interface trap density was $10^{13}\;cm^{-2}eV^{-1}$.

#Interface Trap density #pentacene #C-V characteristics

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Jeong, Seung-Hyeon

소속기관 Dept. of Electronics engineering, Dong-A University

주요연구분야 공학 > 전기전자공학 > 전기공학

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Kim, Se-Min

소속기관 Dept. of Electronics Eng., Dong-A University

주요연구분야 공학 > 전기전자공학 > 전기공학

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Song, Chung-Kun

소속기관 Department of Electronics Engineering, Dong-A University

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