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산화막 CMP 공정에서 슬러리 온도 변화에 따른 연마 특성
전기전자재료학회논문지
2005 .01
Slurry의 pH가 CMP특성에 미치는 영향
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
1998 .05
실리카 슬러리의 에이징 효과 및 산화막 CMP 특성
전기전자재료학회논문지
2004 .01
Cu CMP Slurry의 첨가제에 따른 특성 평가
한국재료학회 학술발표대회
2002 .01
Effect of Slurry Flow in Spray Slurry Nozzle System on Cu CMP
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
2017 .02
CMP용 Slurry Particle간의 상호작용에 대한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
Reproducible Chemical Mechanical Polishing Characteristics of Shallow Trench Isolation Structure using High Selectivity Slurry
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2002 .01
Dependence of Nanotopography Impact on Fumed Silica and Ceria Slurry Added with Surfactant for Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Polishing
한국재료학회지
2006 .01
실리카 연마제가 첨가된 재활용 슬러리를 사용한 2단계 CMP 특성
전기전자재료학회논문지
2003 .01
CMP 공정에서 Slurry Particle과 Wafer 표면간의 상호작용에 대한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
Cu CMP에서 슬러리 온도가 연마율에 미치는 영향
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2017 .05
Effect of slurries on the dishing of Shallow Trench Isolation structure during CMP process
한국트라이볼로지학회 학술대회
2002 .10
STI CMP용 가공종점 검출기술에서 나노 세리아 슬러리 특성이 미치는 영향
반도체및디스플레이장비학회지
2004 .01
기계화학적 연마를 이용한 트렌치 구조의 산화막 평탄화
전기전자재료학회논문지
2002 .01
혼합 연마제 슬러리를 이용한 Oxide CMP 특성에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2006 .07
혼합 연마제 슬러리를 이용한 Oxide CMP 특성에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2006 .07
혼합 연마제 슬러리를 이용한 Oxide CMP 특성에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2006 .07
희석된 혼합연마 슬러리의 Cu CMP 특성에 관한 연구
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2012 .10
STI-CMP용 세리아 슬러리 공급시스템에서 거대입자와 필터 크기가 Light Point Defects (LPDs)에 미치는 영향
반도체및디스플레이장비학회지
2004 .01
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