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CHF₃/ C₂F6 반응성 이온 건식 식각시 실리콘 표면 잔류막 특성 변화에 미치는 감광막 마스크의 영향
대한전자공학회 학술대회
1991 .06
O2+CF4 저압플라즈마를 이용한 감광막 식각특성 연구 ( A Study on the Resist Etching Characteristics in the Low Pressure O2+CF4 Plasma )
대한전자공학회 학술대회
1987 .11
G선 스테퍼를 이용한 형상반전공정의 감광막 형상 특성
한국재료학회 학술발표대회
1995 .01
리소그라피 모의실험을 위한 전자빔용 감광막의 현상 변수 측정과 프로파일 분석 ( Development parameter measurement and profile analysis of electron beam resist for lithography simulation )
전자공학회논문지-A
1996 .07
삼층감광막구조를 이용한 미세패턴의 전자빔 묘화 ( Submicron Patterning in Electron Beam Lithography using Trilayer Resist )
전자공학회논문지-A
1994 .10
반도체 감광막 제거공정 적용을 위한 고농도 오존발생장치 개발
전기학회논문지 C
2006 .12
레이저 프린터용 이층형 유기감광막의 전자사진특성 ( The electrophotographic characteristics of the duble-layered organic photoreceptors for the laser printer )
전자공학회논문지-D
1998 .04
Design of wireless and passive UV SAW sensor with ZnO nanoparticles photosensitive film
대한전기학회 학술대회 논문집
2013 .07
CHF3 / C2F6 반응성 이온 건식 식각시 실리콘 표면 잔류막 특성 변화에 미치는 감광막 마스크의 영향 ( The Effects of Photoresist Layer on the Characteristics of Si-Surface Residue Induced by CHF3 / C2F6 Reactive Ion Eching )
대한전자공학회 학술대회
1991 .07
고효율 LCD 감광막 제거기술 구현 연구
전기전자재료학회논문지
2007 .01
MEMS 응용을 위한 도금장치의 제작 및 특성 연구
한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회
2004 .01
노광파장과 근접거리에 따른 두꺼운 감광막의 측면기울기 변화에 관한 연구
반도체및디스플레이장비학회지
2004 .01
Fabrication of 100㎛ thick mold and electroplating using thick photoresist
대한전기학회 학술대회 논문집
2002 .07
Mechanical 도금
한국표면공학회지
1985 .03
도금 두께 제어시스템의 개발 적용
대한전기학회 학술대회 논문집
1995 .07
도금기술 : 금 도금을 중심으로
한국표면공학회지
1985 .03
실리콘 트랜치 구조 형성용 유전체 평탄화 공정
전기전자학회논문지
2015 .03
금속 몰드와 전기도금을 이용한 금속 메쉬 제조
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2016 .11
철강연주용 Cu-몰드의 분산 도금기술
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2009 .05
고열유속 전자장치에서의 비등열전달 향상을 위한 마이크로 핀 제작
한국동력기계공학회 학술대회 논문집
2007 .11
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