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한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제20권 제11호
발행연도
2007.1
수록면
977 - 982 (6page)

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The realization of the photoresist(PR) removal method with vaporized water and ozone gas mixture has been studied for the LCD TFT array manufacturing. The developed PR stripper uses the water boundary layer control method based on the high concentration ozone production technology. We develop the prototype of PR stripper and experiment to find the optimal process parameter condition like as the ozone gas flow/concentration, process reaction time and thin boundary layer formation. As a results, we realize the LCD PR strip rate over the 0.4 ㎛/min and this PR removal rate is more than 5 times higher than the conventional immersion type ozonized water process.

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