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조성변화에 따른 PECVD SiON 박막의 물성특성
반도체및디스플레이장비학회지
2005 .01
플라즈마 실리콘 OXYNITRIDE막의 구조적 특성에 관한 고찰
전기학회논문지
1992 .05
Si 함량이 PECVD SiON 박막의 전기적 및 광학적 물성에 미치는 영향
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
PLASMA SILICON OXYNITRIDE 막의 DEPOSITION 조건에 따른 막의 구조적 특성 고찰 ( A Study on the Structure Characteristics of Plasma Silicon Oxynitride Film According to Deposition Condition )
대한전자공학회 학술대회
1990 .01
Remote PECVD와 Direct PECVD에 의해 증착된 실리콘 산화막의 특성 평가 ( Evaluation of Silicon Oxide Films Deposited by Remote PECVD and Direct PECVD )
대한전자공학회 학술대회
1991 .11
Characterization of Silicon Oxynitride Film by Plasma CVD
KITE JOURNAL OF ELECTRONICS ENGINEERING
1992 .01
N₂O 가스에서 열산화에 의해 형성된 oxynitride막의 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1993 .07
상온에서 ECR PECVD에 의해 형성된 실리콘 산화질화막의 전기적 특성
한국재료학회 학술발표대회
1993 .01
Characteristics of Silicon Oxynitride Barrier Films on Flexible Polymer Substrates
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
플라즈마 CVD 방법에 의한 oxynitride막의 특성에 관한 고찰
대한전기학회 학술대회 논문집
1993 .07
Laser CVD법에 의해 퇴적된 OXYNITRIDE막의 특성에 관한 고찰
대한전기학회 학술대회 논문집
1996 .07
PECVD 비정질 실리콘 증착 반응의 이론적 모델과 실험결과 ( Theoretical Model and Experimental Results of PECVD Amorphous Silicon Deposition Process )
전자공학회논문지
1990 .07
PECVD 비정질 실리콘 증착 반응의 이론적 모델과 실험결과 ( Theoretical Model and Experimental Results of PECVD Amorphous Silicon Deposition Process )
전자공학회논문지
1990 .06
RTP로 $N_2$O 분위기에서 제조한 Oxynitride Gate 절연체의 물질적 전기적 특성
한국재료학회지
1992 .01
$N_{2}O$ 기체로 제조한 Oxynitride 절연체의 물질적 전기적 특성
한국재료학회 학술발표대회
1994 .01
EFFECTS OF $N_2O$ PRESSURE ON THE CHARACTERISTICS OF ULTRA-THIN GATE OXYNITRIDE
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
GaAs 기판위에 PECVD로 증착된 Silicon Nitride의 특성분석
한국재료학회 학술발표대회
1993 .01
습식 산화한 LPCVD Silicon Nitride층의 물리적, 전기적 특성
한국재료학회지
1994 .01
레이저 CVD법에 의해 퇴적된 OXYNITRIDE막의 기판세정법에 따른 특성에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1997 .07
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