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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 저널정보
- 한국고분자학회 폴리머 폴리머 제44권 제4호
- 발행연도
- 2020.7
- 수록면
- 527 - 534 (8page)
- DOI
- 10.7317/pk.2020.44.4.527
이용수
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임프린트 리소그래피 공정(ILP) 중, 자외선(UV) 광선을 이용한 ILP 기술은 패턴이 형성된 마스터를 사용하여 몰드를 제작하고, 제작된 몰드로 UV 경화성 레진(resin)을 일정한 압력(낮은 압력)으로 눌러준 다음, UV 조사하여 레진을 경화시킨 후, 몰드를 떼어내어 패턴을 전사시키는 방법이다. 이 방법은 고온과 고압이 필요로 하는 thermal ILP 기술보다 간단하고, 효율적인 방법이다. 본 연구에서는 다양한 패턴형성을 위해 UV-ILP 기술로 진행하였고, UV 경화성 레진은 친환경적인 아크릴계 레진을 사용하였다. 이 레진에는 불소성분을 함유하지 않아 낮은 발수성을 가질 수 있어 ILP 기술로 표면의 패턴을 다양하게 형성하여 초발수의 표면특성을 구현했다. 제작한 다양한 패턴필름의 표면형상, 경도, 접촉각, 및 열적특성 등의 평가를 수행하였고, 결론적으로 평면 타입 패턴필름 대비 육각형 패턴필름에서 120o 이상의 높은 발수성을 확인할 수 있었다.
목차
초록
Abstract
서론
실험
결과 및 토론
결론
참고문헌
참고문헌 (51)
참고문헌 신청
G. Fei, C. Tuinea-Bobe, D. Li, G. Li, B. Whiteside, P. Coates, and H. Xia, RSC Adv., 46, 24132 (2013).
Y. M. Park, H. C. Bang, Y. H. Seo, and B. H. Kim, Korean Soc. Manuf. Technol. Eng., 23, 64 (2014).
J. Nam, H. Lim, D. Kim, and S. Shin, Lab Chip, 19, 3361 (2011).
Y. M. Park, S. H. Seo, Y. H. Seo, and B. H. Kim, J. Korean Soc. Manuf. Technol. Eng., 24, 38 (2015).
M. J. Lee and Y. S. Kim, Electron. Mater. Lett., 3, 155 (2007).
Y. M. Park, H. C. Bang, Y. H. Seo, and B. H. Kim, Korean Soc. Manuf. Technol. Eng., 23, 64 (2014).
J. Nam, H. Lim, D. Kim, and S. Shin, Lab Chip, 19, 3361 (2011).
Y. M. Park, S. H. Seo, Y. H. Seo, and B. H. Kim, J. Korean Soc. Manuf. Technol. Eng., 24, 38 (2015).
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