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학술저널
저자정보
Jang Hyun Kim (Inter-University) Min Gyu Lee (Ajou University) Seong-Su Shin (Ajou University) Sangwan Kim (Ajou University)
저널정보
대한전자공학회 JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE Journal of Semiconductor Technology and Science Vol.20 No.1
발행연도
2020.2
수록면
41 - 46 (6page)
DOI
10.5573/JSTS.2020.20.1.041

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In this paper, the influences of design parameters on the line-edge roughness (LER) effects in a nanowire tunnel field-effect transistor (TFET) and a metal-oxide-semiconductor FET (MOSFET) have been discussed with the help of technology computer-aided design simulation. The strength of LER effects are quantitatively examined by correlation coefficients (R) between electrical performances and variations of nanowire dimensions; 1) threshold voltage (V<SUB>th</SUB>) vs. channel volume, 2) ONstate current (I<SUB>ON</SUB>) vs. channel volume, 3) V<SUB>th</SUB> vs. source-channel junction area, and 4) I<SUB>ON</SUB> vs. sourcechannel junction area. According to the simulation results, the nanowire MOSFET shows the similar values from 0.47-R to 0.74-R for all cases. On the other hand, the nanowire TFET only depends on the variation in the source-channel junction area with R more than 0.4.

목차

Abstract
I. INTRODUCTION
II. SIMULATION CONDITIONS
III. RESULTS AND DISCUSSION
IV. CONCLUSIONS
REFERENCES

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