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저자정보
유하진 (광운대학교) 손창길 (광운대학교) 유진혁 (주성엔지니어링) 박창균 (주성엔지니어링) 김정식 (주성엔지니어링) 박상기 (주성엔지니어링) 강현동 (주성엔지니어링) 최은하 (광운대학교) 조광섭 (광운대학교) 권기청 (광운대학교)
저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제19권 제4호
발행연도
2010.7
수록면
275 - 280 (6page)

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MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition) 장비를 사용하여 BZO (boron doped zinc oxide, ZnO:B) 박막을 증착하고 수소 플라즈마 처리공정을 진행하였다. 본 연구는 수소 플라즈마 처리된 BZO 박막에 산소 플라즈마 재처리를 진행하여 BZO박막의 특성 변화를 분석하였다. 그 결과 BZO 박막 성장은 (100), (101), (110)을 확인하였고, 산소 플라즈마 재처리에 의하여 일함수와 표면 저항이 증가하였다. 수소 플라즈마 처리만을 진행한 BZO 박막과 산소 플라즈마 재처리 공정을 진행한 BZO 박막의 300∼1,100 ㎚에서 가중치 투과율은 86%로 변화하지 않았으며, 가중치 산란도는 12%에서 15%로 증가하였다.
#Boron doped ZnO(BZO) #전도성 투명 전극(TCO) #Treatment #투과율 #산란도 #일함수 #Boron-zinc-oxide #Transparent conductive oxide #O₂-plasma treatment #Work function #Transmittance #Haze

목차

Ⅰ. 서론
Ⅱ. 실험방법
Ⅲ. 실험결과 및 고찰
Ⅳ. 결론
감사의 글
참고문헌

참고문헌 (14)

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1. [학술지(정기간행물)] - H. Iida / 1983 / / IEEE Electron Device Letter EDL-4 : 157 ~ google schola 2. [학술지(정기간행물)] - M. Mizuhashi / 1988 / / Jan. J. Appl. Phys. 27 : 2053 ~ google schola 3. [학술대회논문] - K. Sato / 1993 / / proceedings of the 23th IEEE PV Specialists Conference : 855 ~ google schola 4. [학술지(정기간행물)] - T. Minami / 1984 / / Jan. J. Appl. Phys. 23 : L280 ~ google schola 5. [학술지(정기간행물)] - R. G. Gordon / 2000 / / MRS Bull. 25 : 52 ~ 57 google schola

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