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본 연구에서는 ZnO 박막을 성장하기 위한 plasma-assisted molecular beam epitaxy (PAMBE)에 장착된 플라즈마건에 13.56 ㎒의 rf 전력을 인가하였을 때 발생되는 산소 플라즈마의 발광 스펙트럼을 광발광 분광기(optical emission spectroscopy: OES)를 이용하여 조사하였다. 실험은 산소 가스 유량을 1 sccm에서 20 sccm, rf 전력을 25W에서 250 W 범위에서 플라즈마건의 오리피스의 직경을 각각 3 ㎜ 와 5 ㎜로 달리하여 행해졌다. 산소 플라즈마를 발생시켰을 때 오리피스의 직경에 상관없이 전형적인 산소 플라즈마의 발광 스펙트럼이 관측되었다. 특히 776.8 ㎚와 843.9 n㎚에서 3p?P-3s?S?, 3p³P-3s³S?천이에 기인하는 강한 산소 원자 발광선이 관측되었다. 산소 유량과 rf 파워가 증가함에 따라 776.8 ㎚와 843.9 ㎚의 발광 세기는 증가하였고, 776.8 ㎚의 스펙트럼 발광 세기의 증가율이 843.9 ㎚의 스펙트럼 발광 세기 증가율보다 컸다. 또한 오리피스 직경이 3 ㎜일 때가 5 ㎜일 때보다 산소 플라즈마가 더 안정적으로 발생하였다.

목차

Ⅰ. 서론
Ⅱ. 실험방법
Ⅲ. 실험결과 및 고찰
Ⅳ. 결론
참고문헌

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