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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2008.1
- 수록면
- 34 - 39 (6page)
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저온에서 성장된 AlN (LT-AlN)층이 삽입된 Al<SUB>x</SUB>Ga₁-<SUB>x</SUB>N/LT-AlN/GaN 이종접합 구조를 금속유기 화학기상 증착법(metal-organic chemical vapor deposition)을 사용하여 사파이어 기판 위에 제작하였다. Rutherford backscattering spectroscopy 실험을 통하여 Al<SUB>x</SUB>Ga₁-<SUB>x</SUB>N층의 Al의 조성비 x가 55% 임을 확인하였고, X-선 역격자 공간 mapping을 통하여 층간 변형력을 조사하였다. LT-AlN층의 삽입 여하에 따른 Al<SUB>0.55</SUB>Ga<SUB>0.45</SUB>N 층의 깨짐 현상을 광학현미경과 주사전자현미경을 통하여 조사하였는데, LT-AlN 층이 삽입된 시료의 경우에 깨짐 현상이 현저히 줄어든 Al<SUB>0.55</SUB>Ga<SUB>0.45</SUB>N 층을 얻을 수 있었다. 뿐만 아니라 LT-AlN 층이 삽입된 Al<SUB>0.55</SUB>Ga<SUB>0.45</SUB>N/LT-AlN/GaN 이종접합 구조에 대하여 이차원 전자가스 (two-dimensional electron gas, 2DEG) 관련된 photoluminescence (PL) 신호를 관찰하였다. 이 시료에 대하여 온도 변화에 따른 PL 실험을 수행하여 100 K 근방까지 2DEG 관련된 PL 신호를 관찰하였다. 여기광 세기에 따른 PL 실험을 통하여 ~3.411 eV에서 나타난 2DEG PL 신호와 함께 ~3.437 eV에서도 PL 신호가 관측되었는데, 이는 AlGaN/LT-AlN/GaN 계면에 형성된 2DEG 버금띠와 Fermi 에너지 준위에서의 재결합 특성으로 각각 해석되었다.
목차
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 실험
Ⅲ. 결과 및 고찰
Ⅳ. 결론
감사의 글
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