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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
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저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제10권 제1호
발행연도
2001.4
수록면
81 - 86 (6page)

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반절연성 GaAs(100)기판 위에 MOVCD기법으로 In의 조성비(x)를 0.03으로 일정하게 하여 성장시킨 In_(0.03)Ga_(0.97)As/GaAs 에피층의 표면 광전압 특성을 연구하였다. 기판과 에피층의 SPV 신호가 잘 분리되어 관측 되었으며, InGaAs의 띠 간격 에너지 (E_0)는 1.376eV로서 Pan 등이 제안한 조성비 식을 이용하여 계산한 결과 조성비 (x=0.03)와 잘 일치하였다. 주파수가 증가할 수록 시료의 표면 광전압은 감소하였으며, 이는 광응답 시간이 짧아져 캐리어 이동도가 감소하기 때문이다. 그리고, 온도 의존성 측정으로부터 Varshni 및 온도 계수를 구하였다. 에칭된 시료의 스펙트럼에서 E_0(GaAs)신호 아래에 나타나는 ‘A’신호는 시료 성장시 존재하는 carbon 불순물에 기인한 것이다.

목차

요약

Abstract

1. 서론

2. 실험

3. 결과 및 논의

4. 결론

참고문헌

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