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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
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저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제4권 제4호
발행연도
1995.12
수록면
402 - 406 (5page)

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MOS(금속-산화막-반도체 접합) 소자가 방사선에 노출되면, 산화막내에 양의 공간전하가 생성되고 Si-SiO₂ 계면에 계면준위가 생성된다. MOS 커패시터의 방사선 조사효과를 방사선 피폭량과 산화막의 두께를 달리하는 시편에서 정전용량과 전류변화를 측정하여 고찰하였다. 정전용량-바이어스 전압 특성 실험 결과로부터 플렛밴드 전압 및 계면상태밀도를 계산하였다. 또한 전압-전류 특성은 방사선 조사로 산화막내에 생성된 양의 공간전하와 Si-SiO₂ 계면에 포획된 전하에 의해서 설명이 가능하였다.

목차

Abstract

요약

1. Introduction

2. Experimentals

3. Experimental Results and Discussion

4. Conclusion

References

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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2019-420-001262907