RFI ionized magnetron sputtering에서 radial uniformity 문제

주정훈

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자료유형: 학술저널

저자정보: 주정훈

저널정보: 한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제6권 제1호

발행연도: 1997.2

수록면: 85 - 90 (6page)

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1997

RFI ionized magnetron sputtering에서 radial uniformity 문제

주정훈 Applied Science and Convergence Technology 1997.02 학술저널

RFI ionized magnetron sputtering을 이용한 Al,Cu,Ag 박막의 제작

주정훈 한국진공학회 학술발표회초록집 1997.02 학술대회자료

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32㎝ 직경의 AlCu_x(x=0.5%)음극 타겟과 회전 자석을 이용한 상용 마그네트론 스퍼터링 장치에서 부가적인 플라즈마 여기 방법으로 스퍼터링된 업자들을 이온화시킨 후, 수십 볼트의 직류 기판 바이어스로 이온의 방향성과 에너지를 조절하여 작은 트렌치나 via를 채울 수 있는 공정을 개발하였다 여기에서, 반경방향의 이온 플럭스비의 균일도 문제를 개선하기 위하여, 업자들의 가시광선 영역의 방출선을 이용한 플라즈마 진단파, 패터닝된 웨이퍼에 대한 직접 채우기로 플라즈마 내의 업자 분포와의 상관 관계를 찾고, RF 코일 설계의 개선을 도모하였다. 가시광 방출 분광에서 Ar°, Ar^+, Al^+, Al° 입자들의 방출선 세기는 1 ㎛이하의 크기를 갖는 트렌치와 via의 바닥과 top 두께비와 밀접한 관련이 있었다. RF 코일의 직경을 29㎝에서 32㎝로 증가시키고, RF 입력부에 의한 비대칭을 개선하여 이온 플럭스비의 척도가 되는 via 채우기의 바닥과 top의 두께비에서 7.5%에서 1.5% 로의 균일도 향상을 얻었다.

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