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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 저널정보
- 한국진공학회(ASCT) Journal of Korean Vacuum Science & Technology Journal of Korean Vacuum Science & Technology Vol.2 No.2
- 발행연도
- 1998.10
- 수록면
- 133 - 138 (6page)
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To enhance the ionization level of I-PVD and reduce the coil voltage two approaches were tried and as a diagnostic, optical emission spectroscopy and impedance analysis of the plasma was done with a range of Ar pressures and RF powers along with XRD analysis of deposited Ag films. RF sputtering power was pulsed with various on/off time scales to recover the ICP quenched by sputtered metals. This in average enhances the ionization of the sputtered atoms with 10 ㎳/10 ㎳ and 100 ㎳/100 ㎳ pulse on/off time duration and gives higher (200) preferred orientation over (111) in deposited Ag films. Secondly, Small axial B field about 8G remarkably reduced RF coil sputtering and showed scaled relationship between RF power and magnetic field strength for optimal process condition. From OES of Ar° and Ar^+, wave-like dispersion structure appeared and reduced the coil voltage about 20% at very weak field strength of 8G. This should be studied further to have any relation with low mode Helicon wave launching.
목차
Abstract
Ⅰ. Introduction
Ⅱ. Experimental
Ⅲ. Results and Discussion
Ⅳ. Conclusions
Acknowledgement
References
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