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We have developed new electrostatic discharge (ESD) protection devices with, bidirectional flip chip transient voltagesuppression. The devices differ in their epitaxial (epi) layers, which were grown by reduced pressure chemical vapordeposition (RPCVD). Their ESD properties were characterized using current-voltage (I-V), capacitance-voltage (CV)measurement, and ESD analysis, including IEC61000-4-2, surge, and transmission line pulse (TLP) methods. TwoBD-FCTVS diodes consisting of either a thick (12 μm) or thin (6 μm), n-Si epi layer showed the same reverse voltageof 8 V, very small reverse current level, and symmetric I-V and C-V curves. The damage found near the corner of themetal pads indicates that the size and shape of the radius governs their failure modes. The BD-FCTVS device madewith a thin n- epi layer showed better performance than that made with a thick one in terms of enhancement of thefeatures of ESD robustness, reliability, and protection capability. Therefore, this works confirms that the optimizationof device parameters in conjunction with the doping concentration and thickness of epi layers be used to achieve highperformance ESD properties.

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