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한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제16권 제11호
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2003.1
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We studied the nematic liquid crystal (NLC) aligning capabilities using the new alignment material of a-C:H thin film as working gas at 30W rf bias condition. A high pretilt angle of about 5°by ion beam(IB) exposure on the a-C:H thin film surface was measured. A good LC alignment by the IB alignment method on the a-C:H thin film surface was observed at annealing temperature of 250℃, and the alignment defect of the NLC was observed above annealing temperature of 300℃. Consequently, the high LC pretilt angle and the good thermal stability of LC alignment by the IB alignment method on the a-C:H thin film surface as working gas at 30W rf bias condition can be achieved.

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