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신태호 (인하대학교) 지병관 (인하대학교) 김명수 (인하대학교) 이다혁 (인하대학교) 김한빛 (인하대학교) 박상종 (PSK) 이창원 (인하대학교) 이승걸 (인하대학교) 박세근 (인하대학교) 오범환 (인하대학교)
저널정보
대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회 2016년도 대한전자공학회 하계종합학술대회
발행연도
2016.6
수록면
311 - 314 (4page)

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In this paper, a chamber has been developed to strip photoresists on large-area wafers. It is calculated by different RF-power and inlet flow rate of oxygen. And distribution of each species and velocity magnitude, which is 1mm above wafer surface, are investigated. The software that used is CFD-ACE+. The ashing rate is improved as RF-power and flow rate are increased. However the uniformity is decreased when those are increased.

목차

Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 본론
Ⅲ. 플라즈마 해석
Ⅳ. 결론 및 향후 연구 방향
참고문헌

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