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학술저널
저자정보
김준현 (Seoul National University of Science & Technology) 심재명 (Seoul National University of Science & Technology) 주기태 (Seoul National University of Science & Technology) 김용성 (Seoul National University of Science & Technology) 정병현 (Eotech)
저널정보
한국생산제조학회 한국생산제조학회지 한국생산제조시스템학회지 Vol.25 No.4
발행연도
2016.8
수록면
281 - 289 (9page)

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Agitation is a secondary process used to increase the PR stripping force on an ITO-glass surface; it is an efficient approach to stripping during production. It activates the stripper to chemically penetrate the PR layer and assists by breaking down the physical bonding forces at the surface. In this study, different stripping tests were conducted by varying the dipping time, the composition, the strip temperature, and the stripper concentration. Optimal PR strip conditions were estimated by using comparative visual inspection of stripped sample surfaces. The stripping process was affected by changes in the moving speeds and the sample positions. It was confirmed that the stripping capability improved at a dilute stripper ratio of 20-40% and a strip temperature of 30-40°C and within 60 s of strip time.
#Dip coatings #Dip-agitation #ITO-Glass #Photoresist #Stripping process

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 박리 작용의 구조
3. 박리 작용의 agitation 영향 민감도 분석
4. 수치해석
5. 결론
References

참고문헌 (10)

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[학술지(정기간행물)] - 이호경 / 2013 / 特許와 論文으로 본 스트리핑 工程廢液 再活用 技術 動向 / 자원리싸이클링 22 (4) : 81 ~ 90 Crossref [학술지(정기간행물)] - Moon, S. H. / 2010 / Technical Trend on the Recycling Technologies for Stripping Process Waste Solution by the Patent and Paper Analysis / Journal of the Korean Institute of Resources Recycling 22 (4) : 81 ~ 90 google schola [기타자료] - Nakahara, H / 2004 / Photoresist Stripping Composition and Process for Stripping Resist / US Patent: 6815150 google schola [기타자료] - Ikemoto, K / 2004 / Photoresist Stripping Agent / US Patent: 0137379 google schola [기타자료] - Ikemoto, K / 2006 / Photoresist Stripping Composition and Cleaning Composition / US Patent: 7049275 google schola

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