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대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회 대한전자공학회 1986년도 하계종합학술대회 논문집 Vol.9 No.1
발행연도
1986.6
수록면
392 - 396 (5page)

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1987

O2+CF4 저압플라즈마를 이용한 감광막 식각특성 연구 ( A Study on the Resist Etching Characteristics in the Low Pressure O2+CF4 Plasma )
최영규 ,  강진영 ,  마동성 대한전자공학회 학술대회 1987.11 학술대회자료

1986

C2C1F5-O2혼합가스를 사용한 포토레지스트의 건식식각 특성
최영규 ,  이진희 ,  남기수 외 1명 대한전자공학회 학술대회 1986.06 학술대회자료
C2CIF5-O2 혼합가스를 사용한 포토레지스트의 건식 식각 특성 ( Dry Etching Characteristics of Photoresist The effect of C2CIF5 addition to O2 Plasma )
최영규 ,  이진희 ,  남기수 외 1명 대한전자공학회 학술대회 1986.01 학술대회자료

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목차

Abstract
1. 서론
2. 실험
3. 결과및 토의
4. 결론
5. 참고 문헌

참고문헌 (0)

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