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저자정보
하영민 (포항공과대학교) 정홍 (포항공과대학교)
저널정보
대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회 대한전자공학회 2006년도 추계학술대회 논문집Ⅱ
발행연도
2006.11
수록면
727 - 730 (4page)

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This paper describes the process of extracting defect from photomask images. In the process, not only a test image, which may have defects, but also a reference image, which do not have any defect is used. From the two images, a binary defect image whose pixel value indicates the existence of defect at the pixel is obtained.

목차

Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 본론
Ⅲ. 결론 및 향후 연구 방향
참고문헌

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