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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
송은석 (서울대학교) 김용권 (서울대학교) 백창욱 (중앙대학교)
저널정보
대한전기학회 전기학회논문지 전기학회논문지 제60권 제2호
발행연도
2011.2
수록면
362 - 369 (8page)

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이 논문의 연구 히스토리 (6)

2014

열탄성 감쇠 특성을 이용한 높은 Q-지수 비정질 수정 공진자에 관한 연구
송은석 전기·컴퓨터공학부 2014.01 학위논문

2013

수정-수정 접합 및 수정 DRIE를 활용한 웨이퍼 레벨 비정질 수정 원형 공진기 제작
송은석 ,  김용권 ,  백창욱 대한전기학회 학술대회 논문집 2013.10 학술대회자료

2011

비정질 수정 캔틸레버의 식각 공정 최적화 및 Q-factor 연구
송은석 ,  김용권 ,  백창욱 전기학회논문지 2011.02 학술저널

2009

비정질 수정 물질을 기반한 관성센서의 개발
송은석 대한전기학회 학술대회 논문집 2009.11 학술대회자료
비정질 수정과 실리콘 마이크로 캔틸레버 구조물의 Q-factor 비교 연구
송은석 ,  김용권 ,  백창욱 대한전기학회 학술대회 논문집 2009.07 학술대회자료

2008

다구치 방법을 이용한 비정질 수정 건식 식각 최적화
송은석 ,  정형균 ,  황영석 외 3명 대한전기학회 학술대회 논문집 2008.10 학술대회자료

초록· 키워드

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In this paper, optimal deep reactive ion etching (DRIE) process conditions for fused quartz were experimentally determined by Taguchi method, and fused quartz-based micro cantilevers were fabricated. In addition, comparative study on Q-factors of fused quartz and silicon micro cantilevers was performed. Using a silicon layer as an etch mask for fused quartz DRIE process, different 9 flow rate conditions of C4₄F?, O₂ and He gases were tested and the optimum combination of these factors was estimated. Micro cantilevers based on fused quartz were fabricated from this optimal DRIE condition. Through conventional silicon DRIE process, single-crystalline silicon micro cantilevers whose dimensions were similar to those of quartz cantilevers were also fabricated. Mechanical Q-factors were calculated to compare intrinsic damping properties of those two materials. Resonant frequencies and Q-factors were measured for the cantilevers having fixed widths and thicknesses and different lengths. The Q-factors were in a range of 64,000 ?108,000 for fused quartz cantilevers and 31,000 ? 35,000 for silicon cantilevers. The experimental results supported that fused quartz had a good intrinsic damping property compared to that of single crystalline silicon.
#Fused quartz #DRIE #Taguchi method #Single-crystalline silicon #Cantilevers #Q-factor

목차

Abstract
1. 서론
2. 다구치 방법에 의한 비정질 수정 건식 식각 최적화
3. 비정질 수정과 실리콘 마이크로 캔틸레버의 Q-factor 비교
3. 결론
감사의 글
참고문헌
저자소개

참고문헌 (13)

참고문헌 신청
A. Partridge / 2006 / Silicon MEMS Oscillators to Replace Quartz Cristals google schola Kubena / 2007 / 2007 US Patent, us2007/0017287 A1 google schola D. Chang / 2003 / Optimized DRIE etching of ultra-small quartz resonators / Proceedings of the 2003 IEEE International Frequency Control Symposium :829~832 google schola H. Chen / 2008 / An investigation into the characteristics of deep reactive ion etching of quartz using SU-8 as a mask / J.Micromech.microeng 18:1~8 google schola Da Zhang / 2001 / investigations of surface reactions during C2F6 Plasma etching of SiO2 with equipment and feature scale models / J. Vac. Sci. Technol. A 19(2):524~538 google schola

이 논문의 저자 정보

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